“28nm及先導(dǎo)工藝集成電路可制造性設(shè)計關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用” 榮獲中國電子學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎二等獎
2019年4月20~21日，由工業(yè)和信息化部、中國科學(xué)技術(shù)協(xié)會、中國電子學(xué)會等聯(lián)合舉辦的第十四屆中國電子信息技術(shù)年會在合肥召開。微電子所陳嵐研究員帶領(lǐng)的團(tuán)隊完成的“28nm及先導(dǎo)工藝集成電路可制造性設(shè)計關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”項目榮獲中國電子學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎二等獎。
“28nm及先導(dǎo)工藝集成電路可制造性設(shè)計關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”項目由陳嵐研究員帶領(lǐng)的先進(jìn)集成電路設(shè)計及EDA技術(shù)團(tuán)隊完成，團(tuán)隊面向國際發(fā)展前沿和國家重大需求，以集成電路設(shè)計重大應(yīng)用問題為牽引，系統(tǒng)深入的研究了芯片設(shè)計與工藝協(xié)同的技術(shù)，CMP新型工藝精確建模技術(shù)，高性能版圖數(shù)據(jù)并行處理技術(shù)，基于物理知識庫的設(shè)計與工藝協(xié)同優(yōu)化等DFM核心技術(shù)，形成了系統(tǒng)的技術(shù)體系，取得了先進(jìn)納米工藝可制造性設(shè)計解決方案、快速大版圖數(shù)據(jù)處理算法、10多套PDK/iPDK/ePDK以及通用IP電路等系列原創(chuàng)性科技成果，已在國內(nèi)龍頭企業(yè)進(jìn)行應(yīng)用驗證并獲得了高度評價，為我國先導(dǎo)工藝的應(yīng)用推廣做出了重要貢獻(xiàn)。
相關(guān)研究工作得到了國家科技重大專項課題、國家自然科學(xué)基金項目和北京市科委項目、中科院等項目的資助。
