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       包括多尺度多物理機理耦合CMP（Chemical Mechanical Planarization）工藝建模及仿真技術；基于大數(shù)據(jù)+AI技術的CMP工藝建模技術；先進工藝下基于圖形效應的器件可靠性及建模技術；基于設計與工藝協(xié)同（DTCO）的良率分析優(yōu)化技術；高性能EDA并行計算技術等。已形成Art-DFMx工具套件，支持65nm-28nm-14nm-7nm的版圖可制造性設計分析，用于面向良率和性能提升的版圖優(yōu)化、先進工藝CMP工藝后芯片形貌預測；提出了多物理機理耦合建模、基于人工智能的CMP建模、基于LDE的有效平坦化長度特征提取、多粒度算法并行技術。部分成果被行業(yè)龍頭企業(yè)應用。獲國家科技重大專項、國家重點研究計劃等支持。