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業(yè)內(nèi)熱點

CEA-Leti 和英特爾優(yōu)化混合直接鍵合、自組裝的die to wafer工藝

稿件來源:歐洲電子資訊 責(zé)任編輯:ICAC 發(fā)布時間:2022-08-18

  據(jù)歐洲電子資訊,法國研究機構(gòu)CEA Leti和Intel公司優(yōu)化了一種混合直接鍵合、自組裝工藝,可以提高裸片到晶圓(die-to-wafer,D2W)鍵合封裝技術(shù)。該技術(shù)利用了表面最小化原理產(chǎn)生的毛細管力(capillary forces)在目標(biāo)晶圓上對準(zhǔn)裸片,該工藝技術(shù)可以提高對準(zhǔn)精度,并將制造吞吐量每小時提高數(shù)千個裸片。大多數(shù)液體的表面張力在20-50 mN/m之間,但水的表面張力為72.1 mN/m,這使其成為使用親水鍵的自組裝過程的最佳候選。 

  D2W混合鍵合工藝被視為在晶片基板上組合存儲器、HPC和光子芯片的關(guān)鍵,但它比晶圓到晶圓鍵合復(fù)雜得多,對準(zhǔn)精度和裸片組裝吞吐量較低。

  幾年來,CEA Leti一直在開發(fā)一種自組裝方法,其目標(biāo)是大幅提高吞吐量和放置精度。CEA Leti的3D集成項目經(jīng)理Emilie Bourjot說:“D2W自組裝吞吐量提高至商業(yè)化規(guī)模克服了與裸片處理相關(guān)的兩個主要挑戰(zhàn)。如果將自組裝過程與拾取和放置工具相結(jié)合,則可以通過減少對齊時間來提高吞吐量,因為精細對齊是通過液滴進行的。當(dāng)自組裝與集體裸片處理解決方案相結(jié)合時,由于所有裸片在同一時間粘合在一起,而無需在工藝流程的任何時間進行任何高精度放置,從而提高了產(chǎn)量。”

  該研究成果發(fā)表在2022年電子元器件與技術(shù)會議(ECTC)上,論文題名“Collective Die-to-Wafer Self-Assembly for High Alignment Accuracy and High Throughput 3D Integration”。

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