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面向集成電路持續(xù)微縮挑戰(zhàn)和重要技術(shù)創(chuàng)新需求，本課題組聚焦于超越當前主流制造工藝兩代以上的核心器件和關(guān)鍵工藝，從新材料、新結(jié)構(gòu)和新原理上開展前瞻技術(shù)研究，形成國際一流的原創(chuàng)成果，建立面向未來產(chǎn)業(yè)開發(fā)應用的核心技術(shù)方案和關(guān)鍵知識產(chǎn)權(quán)體系，為集成電路的重大技術(shù)創(chuàng)新與變革發(fā)展奠定探索基本技術(shù)路線。 當前本課題組開展的主要研究方向有“水平和垂直納米線（片）...
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集成電路創(chuàng)新技術(shù)課題組更多+
面向集成電路持續(xù)微縮挑戰(zhàn)和重要技術(shù)創(chuàng)新需求，本課題組聚焦于超越當前主流制造工藝兩代以上的核心器件和關(guān)鍵工藝，從新材料、新結(jié)構(gòu)和新原理上開展前瞻技術(shù)研究，形成國際一流的原創(chuàng)成果，建立面向未來產(chǎn)業(yè)開發(fā)應用的核心技術(shù)方案和關(guān)鍵知識產(chǎn)權(quán)體系，為集成電路的重大技術(shù)創(chuàng)新與變革發(fā)展奠定探索基本技術(shù)路線。 當前本課題組開展的主要研究方向有“水平和垂直納米線（片）...