奧地利EVG集團(tuán)(半導(dǎo)體、微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)和納米技術(shù)應(yīng)用的晶圓鍵合和光刻設(shè)備供應(yīng)商)和以色列Teramount of Jerusalem公司(為數(shù)據(jù)中心、高級(jí)計(jì)算、傳感器和其他數(shù)據(jù)通信和電信應(yīng)用提供將光纖連接到硅芯片的可擴(kuò)展解決方案)正在合作實(shí)施晶圓級(jí)光學(xué)以解決硅光子學(xué)的一個(gè)主要障礙,即光纖芯片封裝。此次合作將利用EVG的納米壓印光刻(nanoimprint lithography technology)技術(shù)以及Teramount的PhotonicPlug技術(shù)。
經(jīng)過此次合作,將利用EVG公司的納米壓印光刻技術(shù)對(duì)用于硅光子芯片的標(biāo)準(zhǔn)CMOS晶圓進(jìn)行后處理,從而制造Teramount公司特有的自對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡和透鏡等光學(xué)元件。這使得能夠靈活地從芯片中提取光束,并容易連接到大量光纖。此外,它還實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)光學(xué)檢測(cè)能力,以增強(qiáng)硅光子學(xué)晶圓制造。
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