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當(dāng)前位置

教育背景
2004.9-2008.7 合肥工業(yè)大學(xué) 應(yīng)用物理專業(yè) 本科
2008.9-2014.7 北京理工大學(xué) 光學(xué)工程專業(yè) 博士
工作簡歷
2014.9-2017.7 中國科學(xué)院微電子研究所助理研究員
2017.7-至今中國科學(xué)院微電子研究所副研究員

主持國家自然科學(xué)基金青年基金項(xiàng)目一項(xiàng)，作為骨干人員參與國家自然科學(xué)基金兩項(xiàng)、國際科技重大專項(xiàng)課題（或子課題）4項(xiàng)。

1. Lisong Dong, et al. Mitigating the influence of wafer topography on implantation process in optical lithography [J]. Optics Letter, 2017, 42(15): 2934-2937.
2. ?Lisong Dong, et al. Optimization of resist parameters to improve the profile and process window of the contact pattern in advanced node [J]. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2016, 15(4): 043509.
3. Lisong Dong, et al. Optimize the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type [J]. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017, 16(3): 033505.

1. 董立松, 韋亞一, 宋之洋. 發(fā)明專利名稱: 一種焦面位置測試掩膜版及確定焦面位置的方法及裝置. 中國, 201510474182.0.
2. 董立松, 宋之洋, 韋亞一. 發(fā)明專利名稱: 一種掩膜圖形的優(yōu)化方法、最佳焦平面位置測量方法及系統(tǒng). 中國, 201610342206.1.

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