2018-2019年度，微電子所韋亞一研究員率領(lǐng)先導(dǎo)中心計(jì)算光刻研發(fā)中心團(tuán)隊(duì)與上海積塔半導(dǎo)體有限公司，圍繞集成電路先進(jìn)光刻制造光學(xué)鄰近效應(yīng)修正開展了深度合作。?

　　合作中，韋亞一團(tuán)隊(duì)與上海積塔半導(dǎo)體就實(shí)際生產(chǎn)面臨的光學(xué)臨近修正問(wèn)題，根據(jù)其工藝和產(chǎn)品特征，開展了光源優(yōu)化、OPC建模、版圖優(yōu)化以及硅驗(yàn)證等工作。目前已幫助積塔半導(dǎo)體完成5輪OPC工作并順利流片，直接支撐了積塔半導(dǎo)體在0.18納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)工藝研發(fā)，同時(shí)幫助積塔半導(dǎo)體建立OPC研發(fā)團(tuán)隊(duì)。?

　　本次合作是微電子韋亞一團(tuán)隊(duì)繼與中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等國(guó)內(nèi)集成電路制造企業(yè)合作之后，再次對(duì)實(shí)際制造產(chǎn)業(yè)企業(yè)進(jìn)行指導(dǎo)，幫助企業(yè)建立光學(xué)臨近效應(yīng)的修正的流程，助其突破關(guān)鍵技術(shù)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。?

　　上海積塔半導(dǎo)體有限公司擁有5英寸、6英寸、8英寸晶圓生產(chǎn)線，專注于模擬電路、功率器件的制造，是國(guó)內(nèi)最早從事汽車電子芯片、IGBT芯片制造的企業(yè)。 ?

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　　圖1 版圖

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　　圖2 圖一部分圖形和對(duì)應(yīng)的光學(xué)臨近效應(yīng)修正后的版圖