《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，ISSN：2578-3769）旨在發表集成電路制造領域中從基礎研究階段到工業大規模量產階段的研究成果，目前已被Crossref、DOAJ、CNKI、CSTJ、CAS等數據庫收錄。JoMM的發表內容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。近期，JoMM出版了第三卷第三期。 

　　本期專題文章如下： 

　　Study of Inverse Lithography Approaches based on Deep Learning 

　　Xianqiang Zheng, Xu Ma, Shengen Zhang, Yihua Pan, Gonzalo R. Arce.  

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 3: 20030301 

　　Recognition and Visualization of Lithography Defects based on Transfer Learning 

　　Bo Liu, Pengzheng Gao, Libin Zhang, Jiajin Zhang, Yuhong Zhao, Yayi Wei. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 3: 20030302 

       作為開放閱覽電子學術期刊，JoMM致力于實現快速發表，稿件錄用后即時上線，可閱覽、下載、引用。目前JoMM正在進行2021年征稿，并免版面費，同時也在征集Special Issue的專題（topic is open），以及歡迎新編委、同行評審專家加入JoMM，詳情請查看官網http://www.jommpublish.com/. 

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