中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)郭光燦院士團(tuán)隊郭國平、李海歐研究組與本源量子計算公司等合作,對集成微磁體的硅基量子點進(jìn)行研究,發(fā)現(xiàn)了自旋量子比特操控的各向異性:通過改變外加磁場與硅片晶向的相對方向,可以將自旋量子比特的操控速率、退相干速率、可尋址性進(jìn)行同時優(yōu)化。該成果日前發(fā)表于《應(yīng)用物理評論》。
近幾年,基于硅平面晶體管、硅/硅鍺異質(zhì)結(jié)構(gòu)造的自旋量子比特的單比特控制保真度可達(dá)99.9%,兩比特控制保真度可達(dá)99%,最多的比特操控數(shù)目可以達(dá)到6個。然而,嵌入微磁體的硅基量子點會大幅增加電荷噪聲對量子比特操控的影響,降低量子比特陣列平均操控保真度,阻礙硅基量子比特陣列的進(jìn)一步擴(kuò)展。
為抑制微磁體可能對比特操控的不利影響,傳統(tǒng)方法是優(yōu)化微磁體形狀設(shè)計,另一種更為有效的方法是原位調(diào)節(jié)磁場方向。然而,對于嵌入微磁體的硅量子點,通過調(diào)節(jié)微磁體性質(zhì)優(yōu)化量子比特操控的工作尚無報道。
研究人員通過制備高質(zhì)量的集成微磁體硅平面晶體管量子點,實現(xiàn)了自旋量子比特的泡利自旋阻塞讀出,并以此測量技術(shù)為基礎(chǔ),研究了外加磁場方向?qū)ψ孕孔颖忍夭倏氐挠绊憽?/p>
他們發(fā)現(xiàn),當(dāng)施加的面內(nèi)磁場到達(dá)某一特定角度時,操控速率可以保持較高水平,電荷噪聲引起的退相干被大大抑制,量子比特的尋址特性又被維持在較高水平。這一特點說明通過旋轉(zhuǎn)磁場方向,硅基自旋量子比特的操控速率、退相干時間和可尋址性得到同時優(yōu)化。
相關(guān)論文信息:https://doi.org/10.1103/PhysRevApplied.15.044042
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