三星電子（Samsung Electronics）2020 年 3 月 25 日宣布，已經出貨 100 萬業界首款 10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組，并完成全球客戶評估，這為今后高端 PC、手機、企業級服務器等應用領域開啟新大門。

　　EUV（極紫外光刻）工藝是目前世界上最先進的芯片制造工藝，EUV光刻機也被認為是完成7nm以下制程的重要途徑。三星率先將EUV工藝用到DRAM內存顆粒的生產上，可以在精度更高的光刻中減少多次圖案化的重復步驟，并進一步提升產能。

　　三星表示，將從第四代 10nm級（D1a）DRAM或高端級14nm級 DRAM開始全面導入 EUV，明年基于 D1a大規模量產DDR5和LPDDR5內存芯片，預計會使 12 英寸晶圓的生產率翻番。

　　雖然目前支持 DDR5內存的PC平臺還沒有出現，不過內存芯片卻在各大存儲器大廠的推動下逐漸開始接近上市。三星量產的第一代EUV DDR5 DRAM 單芯片容量為 16Gb（2GB），地點是平澤市的 V2線。

　　除了 10nmEUV 工藝的存儲芯片外，三星也正在推進5nm及以下制程的EUV工藝。外媒報道稱，三星已經從半導體設備生產商那里訂購了5nm 工藝生產的相關設備，目前已經開始在華城 V1 工廠內建立了一條 5nm 的晶圓代工生產線。據悉相關的設備組裝需要兩個多月，按照進度來看，今年 6 月份以前，三星應該能夠安裝完所有的設備。三星將在今年年底進行 5nm EUV 工藝的量產。在三星 5nm 正式量產后，將負責高通下一代 5nm 旗艦芯片和 X60 5G 基帶芯片的生產。

　摘譯自：

　　https://www.samsung.com/semiconductor/newsroom/news-events/samsung-announces-industrys-first-euv-dram-with-shipment-of-first-million-modules/