半導體微器件支撐的電子及光電子技術(shù)已廣泛應用于現(xiàn)代生活，而從器件到系統(tǒng)的集成仍然需要很多復雜技術(shù)與繁瑣流程，很難快速響應緊迫需求。

　　“如果能夠利用簡單的工藝按需實現(xiàn)基本的光電子、電子器件的功能，顯然會更好更快地促進技術(shù)發(fā)展與迭代。”該論文通訊作者王建祿告訴《中國科學報》，他們基于新型材料的微納光電、電子器件制備方法，利用極化控制薄膜層實現(xiàn)無模板器件制備，針對器件的實際需求自如操控圖形。

　　他進一步解釋說，“這層具有極性的鐵電薄膜就像一張納米厚度神奇畫布，納米探針類似于畫筆，運用納米畫筆可以在畫布上任意作畫，而且畫布還可以反復擦寫，畫作也就是各類微納器件，這種方法給制備微納器件提供了豐富想象力。”

　　據(jù)介紹，依靠這種新技術(shù)研制的光電探測器響應率從每瓦4.8毫安提高至每瓦1500毫安，提高了近300倍；準非易失存儲器的保持時間從10秒提高到100秒以上。

　　王建祿表示，這一整套按需“繪制”、隨心所“畫”的器件設計制備新技術(shù)，極大地簡化了半導體工藝過程，為未來芯片技術(shù)提供了新途徑。

　　（原載于《中國科學報》 2020-02-10 第4版 綜合)