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上海光機所在基頻激光輻照下雙離子濺射薄膜的激光損傷研究中取得進展

稿件來源:上海光學(xué)精密機械研究所 責任編輯:ICAC 發(fā)布時間:2021-04-26

  近日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所薄膜光學(xué)實驗室在基頻激光輻照下雙離子濺射薄膜的激光損傷研究中取得進展,結(jié)合損傷破壞機制和過程分析,對濺射致密薄膜出現(xiàn)的高低能量下不同的破壞做了較好的解釋。

  雙離子束濺射薄膜具有優(yōu)良的力學(xué)性能和環(huán)境穩(wěn)定性,適合用于空間激光系統(tǒng)。薄膜的激光損傷是激光系統(tǒng)中的瓶頸,濺射空間薄膜的激光損傷關(guān)系到整個航天器任務(wù)的發(fā)射和運行的穩(wěn)定性。濺射薄膜激光損傷的物理過程研究對尋找薄膜性能提升方法至關(guān)重要,目前的激光損傷模型無法針對濺射薄膜大尺寸膜層剝離現(xiàn)象做出較好的解釋。
  研究提出了一種基頻激光輻照下雙離子濺射薄膜的激光損傷新模型,并與實驗結(jié)果相匹配。研究發(fā)現(xiàn),雙離子束濺射多層薄膜在基頻激光下表現(xiàn)出兩種典型的損傷形貌,一種是無膜層剝離的熱力耦合破壞,另一種是大面積膜層剝離損傷形貌。大面積膜層剝離效應(yīng)與電子束蒸發(fā)薄膜的蜂窩狀形貌及熔石英的環(huán)形燒蝕形貌明顯不同。科研人員通過對空氣電離波的作用過程進行計算,提出了一種基于激光能量與空氣離化相關(guān)的激光損傷模型來解釋該現(xiàn)象,包括缺陷引起的損傷過程和電離空氣形成的沖擊波的損傷過程。針對常用的Al2O3/SiO2、Ta2O5/SiO2、Nb2O5/SiO2薄膜組合進行驗證,發(fā)現(xiàn)該物理模型具有很好的匹配性,并發(fā)現(xiàn)剝離效應(yīng)與不同膜層的熱力參數(shù)相關(guān)。對薄膜損傷過程進行分析,有助于從工藝和設(shè)計角度提高其抗激光損傷性能。同時,該模型可推廣到其他激光材料的損傷機制。
  相關(guān)研究成果發(fā)表在Scientific Reports上。研究工作得到中意政府間國際科技創(chuàng)新合作重點項目、國家自然科學(xué)基金委員會、中科院青年創(chuàng)新促進會、中科院戰(zhàn)略性先導(dǎo)科技專項等的支持。
  
  
  不同能量下雙離子束濺射薄膜的激光損傷形貌:(a)低能量下熱力耦合破壞引起的損傷坑,(b)、(c)高能量下剝離狀損傷形貌;激光損傷過程示意圖:(d)初始缺陷吸收激光能量,熱力耦合效應(yīng),(e)電離空氣形成等離子體,剝離效應(yīng)
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