瑞士Eulitha公司已經(jīng)啟動了新的PhableX系列光刻系統(tǒng)，用于量產(chǎn)光子器件，以滿足客戶不斷增長的需求。這些系統(tǒng)與Eulitha現(xiàn)有的PhableR系列使用相同的專有置換塔爾博特平版印刷（DTL）原理，不同的是PhableX基于全新開發(fā)的平臺，可實現(xiàn)高通量、自動運行。

　　許多新的光子設(shè)備都需要產(chǎn)生亞微米范圍內(nèi)的特征尺寸，例如AR / VR眼鏡中的波導分布式反饋（DFB）激光器，電信光柵或光學生物傳感器等。Eulitha通過其專有的DTL技術(shù)滿足了這一不斷增長的需求，該技術(shù)可實現(xiàn)所需圖案的低成本平版印刷。DTL能夠在大面積上印刷免拼接圖案，因此特別適合滿足光子學行業(yè)的需求。該技術(shù)獲得專利的無焦點成像技術(shù)，可以在非平坦基材上進行均勻印刷。與競爭性的納米壓印光刻技術(shù)不同，DTL是一種非接觸式方法，可大大降低工藝復雜性，器件缺陷率和良率損失。

　　新的PhableX平臺提供了行業(yè)標準光源，包括i-line，KrF（248nm）和ArF（193nm）光源，具體取決于應用的分辨率要求。可以使用為制造半導體器件而開發(fā)的相同的最新光刻膠產(chǎn)品來打印介于60nm至幾微米之間的特征尺寸。該平臺目前可用于尺寸介于100mm至200mm之間的晶圓。主要的掩模制造商都可以提供針對DTL技術(shù)特定需求而開發(fā)的光掩模。PhableX模型的第一個示例已交付給選定的客戶，并收到了更多安裝的訂單。