2010年12月，經過精心周密策劃的微波器件與集成電路研究室（四室）統計過程控制（SPC）體系項目建設初步建設成功，這標志著四室的產品工藝質量管理水平即將邁上新的臺階。

　　為了保障項目產品在制造階段的質量，對工藝生產過程實行有效監控，及時預防并檢測出特殊變異原因，采取對策，保持過程處于統計控制狀態，在室領導的大力支持下，研究室于2010年2月成立SPC項目實施小組，由魏珂擔任組長，組員涵蓋工藝平臺、測試平臺、開發平臺，以及各個課題組研究人員。室主任劉新宇研究員親自負責SPC項目實施管理的督導工作。

　　經過長達10個月的項目實施工作，在全體GaN課題組、測試平臺和工藝平臺成員的共同協助下，目前基本完成就SPC體系建立工作，實現了工藝平臺設備和工藝流程的初步監控，為工藝平臺設備和工藝流程的規范性管理打下了基礎，保障了制造技術平臺的技術水平和能力。

　　針對SPC體系的建立，主要完成了四部分工作：

　　1. 為保證SPC體系的有效運行，建立了適合于實施SPC的環境

　　為保證SPC體系的有效運行，制定了詳細的SPC體系建設推進計劃和切實可行的實施方案，開展了3期SPC系統培訓，并在工作中實行周例會Review機制，形成解決問題的閉環機制。為保障工序能力的持續進行，編制了一套SPC體系文件，通過質量處定期審核。

　　2. 工藝控制點SPC的設定與控制方案

　　通過對原有工藝平臺和擬新增工藝環節的高級流程圖分析，確定了36個關鍵過程節點， 針對初步設定的SPC控制點，我們在本課題研制產品的全部過程中加以嚴格監控，。

　　3. 配置合適的測量系統

　　為保證測試數據的穩定性和可靠性，按照測量系統分析程序和計劃、SPC測試方案展開了一次系統的測量系統分析。通過進行測量系統分析（MSA），為配置合適的測量系統提供了保障。

　　4. 工藝流程和工藝線設備的監控

　　針對GaN功率器件制作流程，繪制了部分關鍵工藝控制圖，實現了工藝過程的初步監控。

　　針對監控過程發現SPC異常，基本采用閉環處理原則進行改進，讓生產過程恢復到統計控制狀態。

　　通過對SPC體系的建設，使項目組成員對SPC有一個更全面的認識，能更好利用過程控制及改進思想、科學的統計方法進行科研活動，提高工作效率，合理分配資源，實現價值最大化。

　　圖1 SPC主要控制內容

　　圖2 測量系統分析實例（直流、小信號、Load-pull測試系統）圖

　　圖3 處于受控狀態的控制圖、工序能力分析圖實例