11月24日，芬蘭倍耐克公司（Beneq）李爍工程師來我所進行了“原子層沉積技術及應用”的學術介紹，并與三室師生進行了熱烈的討論與交流。

　　李爍工程師講到，原子層沉積（atomic layer deposition，ALD），最初于70年代由芬蘭科學家提出，并用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3絕緣膜的研制。多年來，原子層淀積技術的應用范圍從液晶顯示面板到工業涂層等多種領域。目前，正在逐漸成為微電子器件制造領域的必須。它具有單原子層逐次沉積，沉積層厚度均勻的特點，可沉積豐富的材料。

　　通過這次交流，三室師生受益匪淺，不僅加深入了對原子層沉積技術的了解，同時又豐富了專業知識，為今后科研工作的展開打下了良好基礎。