近日，微電子所EDA中心韋亞一研究員團(tuán)隊(duì)在計(jì)算光刻領(lǐng)域的兩篇綜述論文，分別聚焦對準(zhǔn)套刻技術(shù)及光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)，成功入選中國激光雜志社Researching刊群平臺(tái)推出的“2025年光學(xué)論文下載排行Top5”榜單。其中，《集成電路制造工藝波動(dòng)與對準(zhǔn)套刻技術(shù)（特邀）》在《光學(xué)學(xué)報(bào)（網(wǎng)絡(luò)版）》下載量排序第2；《基于模型的光學(xué)鄰近效應(yīng)修正應(yīng)用技術(shù)（特邀）》在《光學(xué)學(xué)報(bào)》下載量排序第4。獲獎(jiǎng)證書見下圖。

韋亞一團(tuán)隊(duì)此次入選的兩篇論文，通過深入探討對準(zhǔn)套刻技術(shù)和光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)的創(chuàng)新應(yīng)用，為集成電路制造中的關(guān)鍵技術(shù)問題提供了積極的理論支持和實(shí)踐指導(dǎo)。相關(guān)論文得到了中國科學(xué)院先導(dǎo)項(xiàng)目、國家自然科學(xué)基金、中國科學(xué)院青年創(chuàng)新促進(jìn)會(huì)等課題支持。

該榜單根據(jù)論文的綜合訪問量和下載量評選出最受關(guān)注的研究成果，旨在展示2025年度最受關(guān)注、最具影響力的科研成果。本期評選期刊為Advanced Photonics、Advanced Photonics Nexus、Photonics Research、High Power Laser Science and Engineering、Chinese Optics Letters、Photonics Insights、Advanced Imaging、《中國激光》、《光學(xué)學(xué)報(bào)》、《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》和《光學(xué)學(xué)報(bào)（網(wǎng)絡(luò)版）》。

???參考鏈接：

https://www.clp.ac.cn/News/Details?id=PT260201000016SxU1X