近期微電子所EDA中心計(jì)算光刻團(tuán)隊(duì)與騰訊量子實(shí)驗(yàn)室，圍繞光刻膠模型校準(zhǔn)的合作研究取得了重要進(jìn)展。

針對當(dāng)前光刻膠模型校準(zhǔn)難題，團(tuán)隊(duì)通過深入的理論和實(shí)驗(yàn)研究，結(jié)合具體工藝條件，開發(fā)了基于機(jī)器學(xué)習(xí)的光刻膠模型校準(zhǔn)貝葉斯優(yōu)化方法。該方法能夠有效利用歷史數(shù)據(jù)對高斯代理模型的訓(xùn)練，同時(shí)結(jié)合其它全局優(yōu)化策略，穩(wěn)定提升光刻膠模型的精確性并提高模型校準(zhǔn)效率。實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)表明，新方法校準(zhǔn)的光刻膠模型誤差比傳統(tǒng)方法降低了21.6%，耗時(shí)降低了80%以上。

本成果發(fā)表在期刊OPTICS EXPRESS上（DOI: 10.1364/OE.518770）。微電子所馬樂為第一作者，董立松副研究員和韋亞一研究員為共同通訊作者。騰訊量子實(shí)驗(yàn)室的馬星宇、郝少剛為共同作者。

本次合作研究旨在研究人工智能、機(jī)器學(xué)習(xí)在計(jì)算光刻領(lǐng)域的應(yīng)用，提高光刻膠模型準(zhǔn)確性和效率，進(jìn)而提高良率、推動(dòng)半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展。雙方將繼續(xù)緊密合作，致力于推進(jìn)計(jì)算光刻仿真的研究。將繼續(xù)探索新的方法和技術(shù)，為計(jì)算光刻在半導(dǎo)體制造行業(yè)的應(yīng)用創(chuàng)造更多的可能性。

騰訊量子實(shí)驗(yàn)室于2018年初創(chuàng)建于深圳，著眼于計(jì)算科學(xué)研究布局，探索先進(jìn)計(jì)算科技的發(fā)展，關(guān)注未來技術(shù)的商業(yè)應(yīng)用實(shí)踐，為提升企業(yè)運(yùn)營效率及效益提供技術(shù)助力。

文章鏈接：https://doi.org/10.1364/OE.518770

圖（a）光刻曝光條件和測試圖形；（b）在兩次實(shí)驗(yàn)中各方法的耗時(shí)；（c）在訓(xùn)練集和測試集的誤差分布