9月6日，微電子所舉辦“芯·文化”論壇之“青年沙龍”2022年第三期學術交流會，邀請了微電子所高頻高壓中心王盛凱研究員作題為《漫談科研之“苦中作樂”》的報告。先導中心高級工程師周娜主持會議。來自先導中心、高頻高壓中心、感知中心、光電中心和健康電子中心的職工及研究生近30人聆聽了報告。
王盛凱首先介紹了研究界面態對新型MOS器件在改善性能和提高可靠性方面存在的重要意義，以及目前界面態存在的挑戰，講解了用于應對以上痛點的MOS界面態“3+1”研究方法，并分享了自身科研、生活經歷和心路歷程。與會人員就新型MOS界面態研究、項目申請以及科研工作中如何調整心態進行了深入交流與探討。
本次交流活動為所內青年科研人員提供了交流分享的平臺，有利于進一步營造自由、科學、富有激情的學術氛圍。
王盛凱畢業于日本東京大學，2021年獲評中國科學院青年創新促進會優秀會員，研究方向為半導體MOS界面物理和工藝研究，共發表文章100余篇，出版英文專著2部，授權國內外發明專利45項，主持國家自然科學基金委、中科院等項目十余項。
學術交流會場
綜合信息