最近6年間，韓國半導體設備領域的專利申請冠軍由SK海力士(SKHynix)拿下，材料領域則由DongwooFine-Chem稱雄。韓國半導體設備業者的技術研發情況較為平均，但材料領域則出現只有某幾家企業申請專利的失衡現象。
據ETNews報導，日前韓國專利廳公布過去6年間，半導體設備、材料領域專利申請動向調查，結果由SK海力士與DongwooFine-Chem各自稱雄。
半導體設備領域過去6年內，專利申請件數最多的韓國企業依序為SK海力士的13%，三星電子(SamsungElectronics)的12%與Semes的8%。此外，樂金Siltron(LGSiltron)為3%，周星工程(JusungEngineering)、WonikIPS、東部HiTek(DongbuHiTek)、KCTech、LIGADP等各占2%。
其中，前三名申請專利件數就占總數的3分之1。冠軍SK海力士申請的專利，以光罩製作與光微影製程為主，與在韓國擁有最多相關專利的尼康(Nikon)，在數量上相差不多。
在外國企業方面，排名依序為東京威力科創(TokyoElectron)的18%，美商應用材料(AppliedMaterials)的6%，科林研發(LamResearch)與尼康各占4%。
另外，半導體材料領域的韓國企業專利，以日本住友化學(Sumitomo)100%持股的韓國子公司DongwooFine-Chem所占比例最高，達24%。其后依序為第一毛織(CheilIndustries)的13%，樂金化學(LGChem)的8%，三星電子的6%，以及SK海力士、樂金顯示器(LGDisplay)與S&STech各占3%。
排名前10名公司的申請專利件數達總數的4分之3，但光是第1名DongwooFine-Chem的申請件數，就將近占總申請件數的4分之1，與設備領域比較之下，就可看出申請專利的企業偏少。
傳統上，半導體材料領域以日本企業最為強勢，不過2013年開始被韓國企業超越。日本2012年以500件專利創下最高紀錄，之后2013年與2014年下滑至300件左右；而韓國國內的申請件數則出現成長，2010年為300件，2014年達380余件。
不過若以過去6年的總專利件數比例進行統計，日本仍以47%取勝于韓國的41%。
韓國專利廳表示，不論半導體設備與材料領域，大企業的專利申請都出現連續幾年減少的現象；至于中小企業在材料領域的專利數有所成長，設備領域則是持平狀態。然而不論海內外，專利登記率仍以大學與研究機構最高。
（來源：DIGITIMES 2014年12月10日）
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