IWAPS為來自國內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術(shù)交流平臺，參會者可以就材料、設(shè)備、工藝、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。 

　　研討會的發(fā)言者均為特邀自集成電路制造相關(guān)領(lǐng)域的國內(nèi)外資深專家，代表了其所在領(lǐng)域的國際先進(jìn)水平。報告內(nèi)容涉及廣泛，涵蓋了當(dāng)前的技術(shù)現(xiàn)狀、未來的發(fā)展趨勢以及面臨的挑戰(zhàn)等。該研討會為想要了解更多國內(nèi)外半導(dǎo)體業(yè)界動態(tài)的研究者和工程師提供更多機會。考慮到當(dāng)前的實際情況，第六屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會將于2022年10月21日-22日舉辦，并采用線上的方式，歡迎免費參會。 

　　本次會議由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟，中國光學(xué)學(xué)會，中國電子學(xué)會主辦；中國科學(xué)院微電子研究所，中國光學(xué)學(xué)會光刻技術(shù)專業(yè)委員會承辦；廣東省大灣區(qū)集成電路與系統(tǒng)應(yīng)用研究院，南京誠芯集成電路技術(shù)研究院協(xié)辦；IEEE電氣和電子工程師協(xié)會提供支持。 

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