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通知公告

JoMM“Special Issue on CAD Technologies”特刊發(fā)表

稿件來源： 發(fā)布時間：2021-01-21

　　近期，《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，ISSN：2578-3769）邀請李序武博士（Dr. Shiuh-Wuu Lee，ex-EVP and ex-CTO of SMIC）為本期專欄的客座編輯，出版了主題為“CAD Technologies”的特刊專欄。特刊文章的作者來自Intel、UC Berkeley、TU Braunschweig、U. of Glasgow、Synopsys、ICRD、Anchor Semiconductor、IMECAS等國際著名集成電路企業(yè)、大學(xué)和研究機構(gòu)。 

　　JoMM旨在發(fā)表集成電路制造領(lǐng)域中從基礎(chǔ)研究階段到工業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)階段的研究成果，目前已被Crossref、DOAJ、CAS、知網(wǎng)、維普等數(shù)據(jù)庫收錄。JoMM的發(fā)表內(nèi)容包括但不限于Design、Process、Metrology & Yield Control、Packaging、Materials、Equipment 等方面。  

       本期特刊文章如下： 

      Guest Editorial: Special Issue on CAD Technologies 

      Shiuh-Wuu Lee 

      2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030401 


 

      BSIM-CMG compact model for IC CAD: from FinFET to Gate-All-Around FET Technology 

　　Avirup Dasgupta, Chenming Hu. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030402 

 　　On the History of the Numerical Methods Solving the Drift Diffusion Model 

　　Bernd Meinerzhagen. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030403 

  

　　Nano-Electronic Simulation Software (NESS): A Novel Open-Source TCAD Simulation Environment 

　　Cristina Medina-Bailon, Tapas Dutta, Fikru Adamu-Lema, Ali Rezaei, Daniel Nagy, Vihar P. Georgiev, Asen Asenov. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030404 
 

 

　　First-principles Simulations of Tunneling FETs Based on van der Waals MoTe2/SnS2 Heterojunctions with Gate-to-drain Overlap Design 

　　Kun Luo, Kui Gong, Jiangchai Chen, Shengli Zhang, Yongliang Li, Huaxiang Yin, Zhenhua Wu. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030405 

 

 

　　Material Modeling in Semiconductor Process Applications 

　　Boris A. Voinov, Patrick H. Keys, Stephen M. Cea, Ananth P. Kaushik, Mark A. Stettler. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030406 

 

 

　　Fast and Accurate Machine Learning Inverse Lithography Using Physics Based Feature Maps and Specially Designed DCNN 

　　Xuelong Shi, Yan Yan, Tao Zhou, Xueru Yu, Chen Li, Shoumian Chen, Yuhang Zhao. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030407 

 　　Machine Learning based Optical Proximity Correction Techniques 

　　Pengpeng Yuan, Taian Fan, Yaobin Feng, Peng Xu, Yayi Wei. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030408  

 

　　Enabling Variability-Aware Design-Technology Co-Optimization for Advanced Memory Technologies 

　　Salvatore M. Amoroso, Plamen Asenov, Jaehyun Lee, Nara Kim, Ko-Hsin Lee, Yaohua Tan, Yong-Seog Oh, Lee Smith, Xi-Wei Lin, Victor Moroz. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030409 
 

 

　　Pattern-Centric Computational System for Logic and Memory Manufacturing and Process Technology Development 

　　Chenmin Hu, Khurram Zafar, Abhishek Vikram, Geoffrey Ying. 

　　2020 JoMM Volume 3, Issue 4: 20030410 


 　　作為開放閱覽電子學(xué)術(shù)期刊，JoMM致力于實現(xiàn)快速發(fā)表，稿件錄用后即時上線，可閱覽、下載、引用。目前JoMM正在進(jìn)行2021年征稿，并免版面費，同時也在征集Special Issue的專題（topic is open），以及歡迎新編委、同行評審專家加入JoMM，詳情請查看官網(wǎng)www.jommpublish.org/. 

       歡迎投稿！ 

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