國家發(fā)展芯片（集成電路）產(chǎn)業(yè)的必要性已經(jīng)上升到國家戰(zhàn)略層面，中央對于集成電路的發(fā)展也給予了極大的政策支持。基于這樣的形勢，國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）應(yīng)運而生。IWAPS為來自國內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術(shù)交流平臺，參會者可以就材料、設(shè)備、工藝、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。 

　　研討會的發(fā)言者均為特邀自集成電路制造相關(guān)領(lǐng)域的國內(nèi)外資深專家，代表了其所在領(lǐng)域的國際先進(jìn)水平。報告內(nèi)容涉及廣泛，涵蓋了當(dāng)前的技術(shù)現(xiàn)狀、未來的發(fā)展趨勢以及面臨的挑戰(zhàn)等。該研討會為想要了解更多國內(nèi)外半導(dǎo)體業(yè)界動態(tài)的研究者和工程師提供更多機會。參會者分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機構(gòu)、高校等。第四屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會將于11月5日-6日在成都舉辦，歡迎報名參會。

　　在此之前，IWAPS已經(jīng)成功舉辦了三屆，首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會于2017年10月12-13日在北京舉辦，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所承辦。報告人均來自國內(nèi)外行業(yè)頂級專家，吸引了超過200名參會者參會。 

　　第二屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會于2018年10月18-19日在廈門舉辦，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟主辦，中國科學(xué)院微電子研究所與廈門半導(dǎo)體集團共同承辦，得到了廈門市海滄區(qū)政府的大力支持。此次會議的參會者超過300人，外籍參會者超60人。此次會議開辟了分會場，通稿論文征稿，吸引了更多高校和研究所的科研人員前來參會分享成果。

　　第三屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會于2019年10月17-18日在南京舉辦，由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟和中國光學(xué)學(xué)會主辦，中國科學(xué)院微電子研究所與南京市浦口高新區(qū)、南京市浦口區(qū)科學(xué)技術(shù)局承辦，南京誠芯集成電路技術(shù)研究院協(xié)辦，IEEE南京分會提供技術(shù)支持，參會者人數(shù)穩(wěn)步提升。來自高校與研究所的行業(yè)內(nèi)人士踴躍投稿參會，學(xué)生與研究人員分享了各自最新的研究成果，通過專家委員會的評議，選出了最佳論文獎。并且依托國際期刊《Jouranl of Microelectronic Manufacturing 》（JoMM），能夠讓參會的中國科研工作者、學(xué)生更便捷地發(fā)表自己的最新科研成果。 

　　經(jīng)過3年的不懈努力，IWAPS已經(jīng)吸引了若干固定的贊助商和國內(nèi)外知名專家學(xué)者，每年的參會單位和人數(shù)都在穩(wěn)步提升，構(gòu)筑的產(chǎn)、學(xué)、研生態(tài)圈，能夠為國內(nèi)外業(yè)內(nèi)人員提供了一個更直接的學(xué)術(shù)交流平臺，為本地企業(yè)提供更多合作溝通的機會，也使國際知名廠商能夠更加深入地了解本地商業(yè)環(huán)境與政策。今年在成都舉辦的IWAPS 2020,    將會有更大的規(guī)模，更豐富的內(nèi)容，更先進(jìn)的技術(shù)交流，敬請期待！