近年來,中國集成電路產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展,基于這樣的形勢,國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(International Workshop on Advanced Pattern Solution, IWAPS)應(yīng)運(yùn)而生。IWAPS為來自國內(nèi)外半導(dǎo)體工業(yè)界、學(xué)術(shù)界的資深技術(shù)專家和優(yōu)秀研究人員提供了一個技術(shù)交流平臺,參會者可以就集成電路制造工藝、設(shè)備、材料、測量、計算光刻和設(shè)計優(yōu)化等多個主題分享成果,探討解決方案,并研討即將面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)。
作為國內(nèi)唯一的高端光刻技術(shù)研討會,其發(fā)言者均為特邀自光刻及其相關(guān)領(lǐng)域的國內(nèi)外資深專家,代表了其所在領(lǐng)域的國際先進(jìn)水平。報告內(nèi)容涉及廣泛,涵蓋了當(dāng)前的技術(shù)現(xiàn)狀、未來的發(fā)展趨勢以及面臨的挑戰(zhàn)等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平臺,也為想要了解更多國內(nèi)外半導(dǎo)體屆動態(tài)的研究者和工程師提供跟多機(jī)會。
本屆IWAPS會議將于2019年10月17-18日在南京金陵江濱酒店舉辦,由集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟和中國光學(xué)學(xué)會主辦,中國科學(xué)院微電子研究所和南京浦口高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)承辦,IEEE南京分會提供技術(shù)支持。
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