近期，由中國科學院微電子研究所、國科大微電子學院聯(lián)合創(chuàng)辦的國際全英文學術(shù)期刊《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，國際標準期刊編號ISSN：2578-3769）成功出版了第二卷第二期。 

　　本期專題文章如下： 

　　EUV Lithography: State-of-the-Art Review 

　　Nan Fu, Yanxiang Liu, Xiaolong Ma et al. 2019 JoMM Volume 2, Issue 2: 19020202 

　　JoMM 旨在發(fā)表集成電路制造領(lǐng)域中從實驗室理論階段到工業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)階段的研究成果，內(nèi)容包括但不限于 Design、 Process、 Metrology & Yield Control、 Packaging、 Materials、 Equipment 等方面。作為開放閱覽電子學術(shù)期刊， JoMM 致力于實現(xiàn)快速發(fā)表，稿件錄用后即時上線，可閱覽、下載、引用。目前，JoMM正在進行2019年征稿，并免版面費，詳情請查看官網(wǎng)http://www.jommpublish.org/. 

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