近期，由中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、國(guó)科大微電子學(xué)院聯(lián)合創(chuàng)辦的國(guó)際全英文學(xué)術(shù)期刊《Journal of Microelectronic Manufacturing》（JoMM，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)期刊編號(hào)ISSN：2578-3769）成功出版了第二卷第一期。 

　　本期專題文章如下： 

      Nitridation-Etch of Silicon Oxide in Fluorocarbon/Nitrogen Plasma: A Computational Study 

　　Du Zhang, Yu-Hao Tsai, Hojin Kim et al. 2019 JoMM Volume 2, Issue 1: 19020103 

      The Variables and Invariants in the Evolution of Logic Optical Lithography Process 

　　Qiang Wu. 2019 JoMM Volume 2, Issue 1: 19020101 

　　JoMM 旨在發(fā)表集成電路制造領(lǐng)域中從實(shí)驗(yàn)室理論階段到工業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)階段的研究成果，內(nèi)容包括但不限于 Design、 Process、 Metrology & Yield Control、 Packaging、 Materials、 Equipment 等方面。 作為開(kāi)放閱覽電子學(xué)術(shù)期刊， JoMM 致力于實(shí)現(xiàn)快速發(fā)表，稿件錄用后即時(shí)上線，可閱覽、下載、引用。目前，JoMM正在進(jìn)行2019年征稿，并免版面費(fèi)，詳情請(qǐng)查看官網(wǎng)www.lithotechsolutions.org. 

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