中共中央、國務(wù)院1月10日上午在北京人民大會(huì)堂隆重舉行國家科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)勵(lì)大會(huì)。黨和國家領(lǐng)導(dǎo)人習(xí)近平、李克強(qiáng)、劉云山、張高麗出席大會(huì)并為獲獎(jiǎng)代表頒獎(jiǎng)。微電子所和無錫華潤微電子有限公司共同承擔(dān)的“高精度微納結(jié)構(gòu)掩模制造核心技術(shù)”項(xiàng)目獲得2013年國家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)。  

　　“高精度微納結(jié)構(gòu)掩模制造核心技術(shù)”項(xiàng)目主要完成人為劉明，謝常青，葉甜春，陳寶欽，卞福良，龍世兵。該項(xiàng)目屬于信息領(lǐng)域，掩模是集成電路和微納制造的“模具”和基準(zhǔn)，是其發(fā)展和性能提升的重要基礎(chǔ)。本項(xiàng)目在高精度/高效率兼顧的制造技術(shù)、多元化襯底上大高寬比納米結(jié)構(gòu)制造技術(shù)、復(fù)雜結(jié)構(gòu)圖形的高保真自動(dòng)處理和移相掩模增強(qiáng)技術(shù)等方面取得多項(xiàng)突破，形成了掩模行業(yè)13項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)，授權(quán)發(fā)明專利36項(xiàng),軟件著作權(quán)2項(xiàng)。發(fā)表學(xué)術(shù)論文107篇，SCI他引287次。用戶覆蓋全國并出口到歐美等國家，為多項(xiàng)國家重大工程提供了核心元件。 

　　國家科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)旨在獎(jiǎng)勵(lì)為我國科學(xué)技術(shù)事業(yè)發(fā)展做出杰出貢獻(xiàn)的科技工作者。希望全體科研人員再接再厲，將微電子所各類優(yōu)秀科研成果更好地展示出去，為我國微電子科技事業(yè)的不斷發(fā)展做出貢獻(xiàn)。