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【中國(guó)電子報(bào)】22納米:大陸距離產(chǎn)業(yè)化還有多遠(yuǎn)?

稿件來源: 發(fā)布時(shí)間:2013-07-19

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  《孫子兵法·兵勢(shì)》中說道“凡戰(zhàn)者,以正合,以奇勝”,即一方面要有正面進(jìn)攻,大兵團(tuán)推進(jìn),另一方面要有出奇制勝的招數(shù),守正出奇方能贏得戰(zhàn)爭(zhēng)。而最近業(yè)界關(guān)注的中國(guó)科學(xué)院微電子研究所在22納米技術(shù)研發(fā)取得重大進(jìn)展的消息,是否意味著22納米技術(shù)的“出奇”已到來?“22納米先導(dǎo)研發(fā)技術(shù)突破是在某些關(guān)鍵技術(shù)如高K金屬柵等相關(guān)技術(shù)的新材料、新結(jié)構(gòu)上取得的,不是全套工藝,要進(jìn)入量產(chǎn)還需要更大量的開發(fā)工作。”中國(guó)科學(xué)院微電子研究所所長(zhǎng)葉甜春在接受《中國(guó)電子報(bào)》記者專訪時(shí)直言指出。

  關(guān)鍵性技術(shù)取得突破

  多年來,在CoCom輸出條款以及Wassennaar協(xié)定的限制下,中國(guó)大陸一直無法取得外來最先進(jìn)的高科技產(chǎn)品與技術(shù),并因此發(fā)展受阻。同時(shí),全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在摩爾定律的指引下狂飆猛進(jìn),如今主流工藝已經(jīng)進(jìn)入28納米,更先進(jìn)工藝也不時(shí)有試產(chǎn)消息傳出,然而中國(guó)大陸在22納米技術(shù)開發(fā)道路上仍落于人后。

  “此次突破是中國(guó)科學(xué)院微電子研究所聯(lián)合北京大學(xué)、清華大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在制造企業(yè)支持下經(jīng)過3年多的共同努力的階段進(jìn)展,此次22納米研究突破的意義并不僅僅在于技術(shù)差距上的追趕,更重要的是我們?cè)谶@種高度全球化的尖端技術(shù)上開始擁有自己的知識(shí)產(chǎn)權(quán),對(duì)提升大陸IC產(chǎn)業(yè)的核心競(jìng)爭(zhēng)力將發(fā)揮作用。” 葉甜春表示。

  但業(yè)界也有質(zhì)疑,中科院目前只有8英寸研發(fā)線,在8英寸線上做高端IC工藝沒意義,現(xiàn)在已是12英寸晶圓時(shí)代,8英寸都改做模擬和混合電路了,而且開發(fā)22納米工藝需要用浸沒式曝光機(jī)。對(duì)此,葉甜春指出,以方法創(chuàng)新為主的先導(dǎo)研發(fā)不同于以生產(chǎn)技術(shù)開發(fā)為主的產(chǎn)業(yè)開發(fā)。先導(dǎo)研發(fā)在業(yè)內(nèi)有個(gè)專有詞“path finding”(路徑尋找),是指先期進(jìn)行新材料、新結(jié)構(gòu)、新工藝的探索和研究,尋找創(chuàng)新點(diǎn),好比特種部隊(duì)和偵察兵,穿插到敵后探路并占領(lǐng)一些關(guān)鍵據(jù)點(diǎn),迎接大部隊(duì)的到來。說8英寸設(shè)備不能研發(fā)出12英寸生產(chǎn)線用的技術(shù),就好比說偵察兵沒有飛機(jī)大炮不能打仗一樣。實(shí)際上,先導(dǎo)研發(fā)和生產(chǎn)開發(fā)是有機(jī)結(jié)合的兩個(gè)階段,先導(dǎo)研發(fā)并不依賴生產(chǎn)設(shè)備,關(guān)鍵是研發(fā)目標(biāo)和取向要處處考慮到生產(chǎn)的需求,進(jìn)行到一定階段就必須到12英寸生產(chǎn)線上去再開發(fā)。

  這其中的關(guān)鍵就是知識(shí)產(chǎn)權(quán)。在專利之路上,研發(fā)團(tuán)隊(duì)也是“有的放矢”。據(jù)了解,22納米和14納米涉及的專利包括器件結(jié)構(gòu)、高K金屬柵(HKMG)、溝道應(yīng)變工程等幾個(gè)大項(xiàng),而每一項(xiàng)又都包含若干項(xiàng)單元技術(shù),涉及非常多的專利。葉甜春形象地將專利比喻成“必經(jīng)之路上的卡子”,而專利費(fèi)則是“買路錢”。他指出,如高K金屬柵就包括先柵、后柵、新型MG、界面工程等,中科院微電子所的做法是在別人已有的專利基礎(chǔ)上分析是否能繞道或設(shè)立新的道路目標(biāo),在專利布局時(shí)考慮專利組合,并且一定要成體系。比如在新型高應(yīng)力金屬柵CMOS集成方法上有10多個(gè)專利組合,利用了金屬柵的特殊特性,在后柵集成中形成高應(yīng)力結(jié)構(gòu),顯著提高了器件驅(qū)動(dòng)性能。這一方法已在一家制造企業(yè)12英寸線上得到初步驗(yàn)證,柵長(zhǎng)26納米的nMOS器件驅(qū)動(dòng)電流提高了35%,達(dá)到業(yè)界先進(jìn)水平。

  目前,中科院微電子研究所、北京大學(xué)、清華大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)等的開發(fā)團(tuán)隊(duì)已完成了1369項(xiàng)專利申請(qǐng)(國(guó)際專利申請(qǐng)424項(xiàng)),其中高K/金屬柵制程及相關(guān)專利、金屬堆疊結(jié)構(gòu)及其他專利已開始著手在中國(guó)大陸相關(guān)制造企業(yè)導(dǎo)入再開發(fā)。

  重在加快產(chǎn)業(yè)化

  然而,在22納米關(guān)鍵技術(shù)上取得突破還只是“萬里長(zhǎng)征”的第一步,如何加快實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)才是未來面臨的最大考驗(yàn)。業(yè)界專家莫大康指出,從65納米/55納米到45納米/40納米,工藝變化不大,但到了28納米,由于P結(jié)、N結(jié)溝道的漏電流急劇增加,引起晶體管參數(shù)變化,需要在材料、結(jié)構(gòu)上改進(jìn)。中科院微電子所在HKMG等方面的研發(fā)突破是成績(jī),但要在生產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)還有許多問題需要解決。莫大康分析道,臺(tái)積電在28納米就由于成品率問題飽受詬病,而且28納米從樣片到引入量產(chǎn)時(shí)間至少要18個(gè)月,不像此前工藝大概8~10個(gè)月即可,預(yù)計(jì)20納米的爬坡階段將更長(zhǎng)。因?yàn)槌善仿逝c價(jià)格掛鉤,工藝升級(jí)芯片價(jià)格下降推動(dòng)摩爾定律向前,如果成品率不高導(dǎo)致芯片價(jià)格難以降低的話,摩爾定律也將終止。

  水清木華研發(fā)總監(jiān)周彥武也指出,東芝和英特爾2010年在實(shí)驗(yàn)室就可以做到14納米,但量產(chǎn)遠(yuǎn)比實(shí)驗(yàn)室困難百萬倍,東芝的19納米工藝上周已開始量產(chǎn)。

  葉甜春指出,目前研發(fā)團(tuán)隊(duì)正全力與相關(guān)企業(yè)合作,以期早日實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。研發(fā)成果已在生產(chǎn)線上做了初步驗(yàn)證,技術(shù)可行,但要量產(chǎn)工作量更大。

  一方面,任何研發(fā)成果的產(chǎn)業(yè)化脫不開產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)實(shí)。摩爾定律經(jīng)過多年的發(fā)展,每一世代升級(jí)都會(huì)引入一些新材料、新制造工藝,然而只有20%涉及材料、結(jié)構(gòu)到制造工藝的改進(jìn)和提升,80%是在以往工藝積累的基礎(chǔ)上。而目前大陸某些領(lǐng)先制造企業(yè)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了65納米、40納米技術(shù)的量產(chǎn),28納米技術(shù)也即將進(jìn)入量產(chǎn),可以說“萬事俱備,只欠東風(fēng)”。“我們開發(fā)的不是成套系統(tǒng)技術(shù),而是關(guān)鍵技術(shù),如今大陸代工業(yè)技術(shù)水平積累已達(dá)到相當(dāng)高的程度,再結(jié)合我們的關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn),就能實(shí)現(xiàn)更大的突破。如果只有我們的關(guān)鍵技術(shù)點(diǎn),而代工業(yè)沒有足夠的技術(shù)積累,也是不可能量產(chǎn)的。” 葉甜春指出。

  另一方面,更大量的開發(fā)工作需要企業(yè)變成主體,而研發(fā)團(tuán)隊(duì)變成配角,這樣產(chǎn)學(xué)研的分工合作才能更好地體現(xiàn)出其價(jià)值。葉甜春將產(chǎn)學(xué)研合作比喻成大兵團(tuán)作戰(zhàn)。他解釋說,研究院所是偵察部隊(duì),先占領(lǐng)山頭,但攻城略地還要靠主力部隊(duì),而企業(yè)是主力部隊(duì)。關(guān)鍵技術(shù)的突破與生產(chǎn)線是多少英寸線沒什么關(guān)聯(lián),但量產(chǎn)一定要在12英寸線上實(shí)現(xiàn),而且后續(xù)技術(shù)要繼續(xù)完善,需要以企業(yè)為主體來推進(jìn)。

  “以往半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與研發(fā)互相割裂,因此效果差強(qiáng)人意,但我們?cè)谘邪l(fā)模式上,從以前目標(biāo)性不強(qiáng)的打哪指哪到現(xiàn)在指哪打哪,目標(biāo)性很強(qiáng)。我們一直與大陸相關(guān)代工廠緊密合作,因此可與產(chǎn)業(yè)界相呼應(yīng),預(yù)計(jì)轉(zhuǎn)入量產(chǎn)時(shí)間要比以往快得多。” 葉甜春說,“預(yù)期有望在兩三年內(nèi)實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。”他還進(jìn)一步提到,大陸有的制造企業(yè)正在向55納米、45納米工藝走,有的預(yù)計(jì)到年底實(shí)現(xiàn)28納米量產(chǎn),他們的研發(fā)超前一些,也將在20納米工藝上很快聚合產(chǎn)生“裂變”。而且,14納米FINFET工藝已經(jīng)做了一年多的研發(fā)了。隨著大陸代工業(yè)的積累與進(jìn)步,以及產(chǎn)學(xué)研的深度融合,到2018年大陸代工業(yè)節(jié)奏或與國(guó)際水平同步。

  在產(chǎn)品層面,葉甜春介紹說,他們的技術(shù)都基于主流CMOS工藝,瞄準(zhǔn)的是移動(dòng)通信等產(chǎn)品需求。同時(shí),產(chǎn)業(yè)化還需設(shè)計(jì)企業(yè)和制造企業(yè)實(shí)現(xiàn)從產(chǎn)品定義到工藝結(jié)合的深度融合。

  代工業(yè)環(huán)境向好

  中科院微電子所等在22納米研發(fā)技術(shù)的突破不僅昭顯了我國(guó)技術(shù)的實(shí)力,也表明我國(guó)代工業(yè)整體配套環(huán)境在不斷改善,而這與國(guó)家重大專項(xiàng)的支持密不可分。葉甜春介紹說,國(guó)家專項(xiàng)致力于支持技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新相結(jié)合,目前大陸設(shè)備、材料業(yè)等獲得不少的突破,產(chǎn)業(yè)鏈的聯(lián)合攻關(guān)取得較大進(jìn)展,一些新的設(shè)備已在研究中心開始試用,有一兩種高端設(shè)備已達(dá)到20納米水平,大陸不少設(shè)備廠商也在致力于20納米設(shè)備的開發(fā)。

  從整體來看,大陸代工業(yè)與國(guó)際先進(jìn)水平差距已然縮小。葉甜春分析說,在2013年,大陸主流制造企業(yè)40納米已經(jīng)量產(chǎn),28納米計(jì)劃今年年底量產(chǎn),這說明大陸代工業(yè)進(jìn)步明顯。“國(guó)內(nèi)代工體系成長(zhǎng)非常快,一是工藝提升,二是客戶服務(wù)能力提升,很多大的設(shè)計(jì)企業(yè)和制造廠已經(jīng)聯(lián)合做新產(chǎn)品新工藝的開發(fā),結(jié)合緊密。”葉甜春提出。

  摩爾定律是否敲響終止的鐘聲,業(yè)界對(duì)于半導(dǎo)體業(yè)的前景會(huì)產(chǎn)生各種看法。莫大康提到,其中大的方面包括從工藝看在14納米之后如何走下去以及450毫米硅片的進(jìn)程等。而且業(yè)界領(lǐng)袖也都“分道揚(yáng)鑣”,采用的工藝技術(shù)路線不盡相同。

  葉甜春表示,450毫米晶圓不太可能成為代工業(yè)主流,12英寸永遠(yuǎn)有生命力,如果是18英寸,那需要有天量的產(chǎn)品規(guī)模才能支撐,代工線也要講究經(jīng)濟(jì)效益,要尋求市場(chǎng)合適定位,12英寸仍將是主流。大陸一是要從產(chǎn)品出發(fā),結(jié)合工藝開發(fā),設(shè)計(jì)與制造深度融合,整個(gè)行業(yè)將發(fā)生大的改觀。二是在設(shè)備和材料方面尋求突破,材料涉及產(chǎn)品成本,設(shè)備是產(chǎn)業(yè)根基,持續(xù)改進(jìn)就能提升產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

  來源:中國(guó)電子報(bào)、電子信息產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 

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