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微電子所1700V IGBT研制首次流片取得突破

稿件來源: 發(fā)布時間:2011-05-30

  IGBT 1700V 版圖及照片

  近期,由中科院微電子所硅器件與集成技術(shù)研究室(一室)朱陽軍副研究員帶領(lǐng)的IGBT團隊在1700V IGBT研制方面取得了突破性進展。

  該團隊此次研制的1700V trench NPT IGBT產(chǎn)品經(jīng)過首輪流片靜態(tài)參數(shù)基本達標,其中阻斷電壓達1800V以上,飽和壓降2.8V;動態(tài)參數(shù)優(yōu)良,其中最關(guān)鍵的下降時間tf在130ns左右,優(yōu)于國外多個廠家同類產(chǎn)品的300ns;5月4日本批產(chǎn)品又通過了168小時HTRB(高溫反偏老煉試驗)可靠性摸底試驗。綜合來看,該批產(chǎn)品在性能上已達到國際先進水平,優(yōu)于國外多個廠家的同類產(chǎn)品。

  本次產(chǎn)品的開發(fā)是微電子所首次涉足1700V高壓IGBT研制,采用了完全自主設(shè)計的終端(2種)和元胞(9種)結(jié)構(gòu)。制造工藝基于國內(nèi)華虹NEC8吋線,由微電子所負責(zé)工藝設(shè)計,工藝線進行單項工藝模塊開發(fā)。標志著IGBT工藝從設(shè)計研制到工藝開發(fā)的貫通又上了一個新的臺階。

  微電子所IGBT產(chǎn)品研制在所領(lǐng)導(dǎo)和室領(lǐng)導(dǎo)的關(guān)懷幫助下發(fā)展順利,研究團隊不斷發(fā)展壯大,在近一年的時間內(nèi),取得了階段性的成績。項目組先后承擔(dān)了國家重大科技專項,中科院院重要方向性項目,中科院“創(chuàng)新2020”首批支撐服務(wù)國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)科技行動計劃專項,院地合作專項等一系列科研項目。產(chǎn)品開發(fā)方面已形成了1200V系列8款,即將形成1700V系列4款等芯片/器件/模塊產(chǎn)品;并已設(shè)計完成6500V IGBT器件和工藝,1200V & 1700V FRD器件和工藝等,正轉(zhuǎn)入流片階段。IGBT團隊將以更加團結(jié)飽滿的熱情、科學(xué)嚴謹?shù)淖谥纪度氲叫碌漠a(chǎn)品的研制開發(fā)中。

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