“高精度微納結構掩模制造核心技術”項目榮獲2013年國家技術發明二等獎

　　中共中央、國務院1月10日上午在北京人民大會堂隆重舉行國家科學技術獎勵大會。黨和國家領導人習近平、李克強、劉云山、張高麗出席大會并為獲獎代表頒獎。微電子所和無錫華潤微電子有限公司共同承擔的“高精度微納結構掩模制造核心技術”項目獲得2013年國家技術發明二等獎。  

　　“高精度微納結構掩模制造核心技術”項目主要完成人為劉明，謝常青，葉甜春，陳寶欽，卞福良，龍世兵。該項目屬于信息領域，掩模是集成電路和微納制造的“模具”和基準，是其發展和性能提升的重要基礎。本項目在高精度/高效率兼顧的制造技術、多元化襯底上大高寬比納米結構制造技術、復雜結構圖形的高保真自動處理和移相掩模增強技術等方面取得多項突破，形成了掩模行業13項國家標準，授權發明專利36項,軟件著作權2項。發表學術論文107篇，SCI他引287次。用戶覆蓋全國并出口到歐美等國家，為多項國家重大工程提供了核心元件。 

　　國家科學技術獎旨在獎勵為我國科學技術事業發展做出杰出貢獻的科技工作者。希望全體科研人員再接再厲，將微電子所各類優秀科研成果更好地展示出去，為我國微電子科技事業的不斷發展做出貢獻。