10月11日，日本尼康公司榮譽顧問、前董事長吉田莊一郎先生一行訪問中科院微電子所并作學術報告。科技部副部長曹健林、國家科技重大專項02專項咨詢委主任馬俊如，科技部重大專項辦公室、科技部高新技術發展及產業化司、科技部國際合作司領導出席交流會。上海微電子裝備有限公司、中芯國際集成電路制造有限公司（北京）、中科院長春光機所、清華大學等光刻設備產業技術創新戰略聯盟成員單位及多名同行專家參加此次交流活動。中科院微電子所所長葉甜春主持交流會。
曹健林副部長對吉田莊一郎先生的訪問表示熱烈歡迎，希望通過此次交流活動加深中日兩國科學家的相互了解，并建議雙方未來可在優先領域加強基礎科研項目合作，發展長期穩定的合作伙伴關系，建立產學研合作平臺。
吉田莊一郎先生題為“半導體光刻機的歷史與革新”的主題學術報告，結合自己在尼康公司多年工作的經歷，通過對半導體光刻機的演變歷史和目前傳統光刻機面臨的挑戰，預測了下一代光刻機(NGL: Next Generation Lithography) 的發展方向和趨勢。報告后，吉田莊一郎先生和參會人員就光刻技術發展趨勢及關鍵技術問題進行了討論交流，并對大家的提問給予了積極解答。
參會科研人員一致認為吉田莊一郎先生主題演講對正在從事的國家光刻機產業的發展與研究有著積極的指導作用，都感到受益匪淺。希望中、日雙加深合作交流，共同推進光刻機產業的發展。
吉田莊一郎，1932年出生于東京。1956年畢業于東京大學工學系精密工學科，同年進入日本光學工業公司（現為尼康公司）。從事天體望遠鏡、分光器等產品的設計，后著手開發用于制造超LSI的縮小投影型曝光裝置（步進機）。歷經精機事業部部長等職后，于1997年成為社長、2001年成為會長（董事長）兼CEO。2005年起擔任尼康公司顧問。1985年至1990年間在新技術開發事業團（現為科學技術振興機構）的創造科學技術項目“吉田納米機構”曾任總負責人，也曾任過日本半導體設備協會（SEAJ）、國際半導體設備與材料協會（SEMI）、精密工學會等組織的會長。1991年獲頒藍綬褒章、2003年獲頒法國榮譽勛章、2006年獲頒美國電氣與電子工程師學會（IEEE）的羅伯特?諾伊斯獎。
吉田莊一郎作報告
曹健林副部長致辭
報告會現場
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