2018-2019年度，微電子所韋亞一研究員率領先導中心計算光刻研發中心團隊與上海積塔半導體有限公司，圍繞集成電路先進光刻制造光學鄰近效應修正開展了深度合作。
合作中，韋亞一團隊與上海積塔半導體就實際生產面臨的光學臨近修正問題，根據其工藝和產品特征，開展了光源優化、OPC建模、版圖優化以及硅驗證等工作。目前已幫助積塔半導體完成5輪OPC工作并順利流片，直接支撐了積塔半導體在0.18微米技術節點的量產工藝研發，同時幫助積塔半導體建立OPC研發團隊。
本次合作是微電子韋亞一團隊繼與中芯國際、長江存儲等國內集成電路制造企業合作之后，再次對實際制造產業企業進行指導，幫助企業建立光學臨近效應的修正的流程，助其突破關鍵技術實現量產。
上海積塔半導體有限公司擁有5英寸、6英寸、8英寸晶圓生產線，專注于模擬電路、功率器件的制造，是國內最早從事汽車電子芯片、IGBT芯片制造的企業。
圖1 版圖
圖2 圖一部分圖形和對應的光學臨近效應修正后的版圖
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