2月9日，常州瑞擇微電子科技有限公司董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理徐飛來微電子所作學(xué)術(shù)交流，并作了題為《光掩模制造、清洗及清洗設(shè)備》的報(bào)告。三室副主任謝常青研究員主持報(bào)告會(huì)，全所科研人員、研究生共40余人參加了報(bào)告會(huì)。 

　　徐飛在報(bào)告中詳細(xì)介紹了光掩模制造流程、光掩模清洗工藝和光掩模清洗設(shè)備。掩模是微納加工技術(shù)的基準(zhǔn)，是連接設(shè)計(jì)與制造之間的橋梁與紐帶，掩模制造水平直接決定了微電子/光電子和微納加工的精度與質(zhì)量。光掩模制作技術(shù)大體上可分為傳統(tǒng)的刻圖縮微制版技術(shù)系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、光學(xué)圖形發(fā)生器自動(dòng)制版技術(shù)系統(tǒng)和以電子束掃描成像為代表的各種短波長(zhǎng)射線成像曝光技術(shù)系統(tǒng)。光掩模版的質(zhì)量是影響集成電路功能和芯片成品率的重要因素之一。為保證光掩模版的質(zhì)量，必須進(jìn)行嚴(yán)格控制掩模缺陷密度、掩模版精度和圖形質(zhì)量，而清洗則影響掩模缺陷密度。徐飛簡(jiǎn)要介紹了常州瑞擇微電子科技有限公司的清洗工藝和特色設(shè)備，并就光掩模的制造、清洗等同與會(huì)人員進(jìn)行了交流。 

　　徐飛于2007年入選常州市第一批引進(jìn)領(lǐng)軍型海外留學(xué)歸國(guó)創(chuàng)業(yè)人才項(xiàng)目，同年，回國(guó)創(chuàng)建了常州瑞擇微電子科技有限公司，擔(dān)任董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理。他主持包括國(guó)家科技重大專項(xiàng)02專項(xiàng)在內(nèi)的多項(xiàng)科研項(xiàng)目，自主研發(fā)的130納米級(jí)光掩模清洗設(shè)備等打破了國(guó)外壟斷，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)空白，技術(shù)指標(biāo)均已達(dá)到甚至超過國(guó)際領(lǐng)先水平。