10月8日，日本東京工業(yè)大學Hiroshi Iwai教授到微電子所進行學術(shù)交流，做了題為Future of Nano CMOS Technology的學術(shù)報告。微電子所所長葉甜春主持交流會并致歡迎詞，向 Hiroshi Iwai教授頒發(fā)“中國科學院微電子研究所榮譽研究員”證書。 

　　報告中，Hiroshi Iwai教授介紹了CMOS未來發(fā)展前景、前端技術(shù)研究情況以及高k/金屬柵極技術(shù)創(chuàng)新和新隧道材料III-V/Ge的最新進展等問題。他認為，雖然新興技術(shù)制造的器件（如隧道結(jié)場效應晶體管，無結(jié)場效應晶體管，碳基場效應晶體管）正在增加，但難以取代Si-CMOS，并需要更長時間在未來的器件制造中給予實施。 

　　報告后，與會聽眾與Hiroshi Iwai教授就納米COMS器件、硅納米線等行業(yè)關(guān)注的技術(shù)問題進行了熱烈的學術(shù)討論。 

　　Hiroshi Iwai教授目前在日本東京工業(yè)大學前沿研究中心、電子和物理應用系擔任教授，曾發(fā)表（含合作）1000多篇國際和400多篇國內(nèi)期刊/會議論文，是IEEE資深會員和日本電氣工程師學會和日本應用物理學會資深研究員，曾獲J.J. Ebers獎、日本教育部科學技術(shù)獎等獎項。  

葉甜春所長向Hiroshi Iwai教授（左）頒發(fā)聘書 

學術(shù)報告會現(xiàn)場