10月11日，日本尼康公司榮譽顧問、前董事長吉田莊一郎先生一行訪問中科院微電子所并作學(xué)術(shù)報告。科技部副部長曹健林、國家科技重大專項02專項咨詢委主任馬俊如，科技部重大專項辦公室、科技部高新技術(shù)發(fā)展及產(chǎn)業(yè)化司、科技部國際合作司領(lǐng)導(dǎo)出席交流會。上海微電子裝備有限公司、中芯國際集成電路制造有限公司（北京）、中科院長春光機所、清華大學(xué)等光刻設(shè)備產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟成員單位及多名同行專家參加此次交流活動。中科院微電子所所長葉甜春主持交流會。 

　　曹健林副部長對吉田莊一郎先生的訪問表示熱烈歡迎，希望通過此次交流活動加深中日兩國科學(xué)家的相互了解，并建議雙方未來可在優(yōu)先領(lǐng)域加強基礎(chǔ)科研項目合作，發(fā)展長期穩(wěn)定的合作伙伴關(guān)系，建立產(chǎn)學(xué)研合作平臺。 

　　吉田莊一郎先生題為“半導(dǎo)體光刻機的歷史與革新”的主題學(xué)術(shù)報告，結(jié)合自己在尼康公司多年工作的經(jīng)歷，通過對半導(dǎo)體光刻機的演變歷史和目前傳統(tǒng)光刻機面臨的挑戰(zhàn)，預(yù)測了下一代光刻機(NGL: Next Generation Lithography) 的發(fā)展方向和趨勢。報告后，吉田莊一郎先生和參會人員就光刻技術(shù)發(fā)展趨勢及關(guān)鍵技術(shù)問題進行了討論交流，并對大家的提問給予了積極解答。 

　　參會科研人員一致認為吉田莊一郎先生主題演講對正在從事的國家光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展與研究有著積極的指導(dǎo)作用，都感到受益匪淺。希望中、日雙加深合作交流，共同推進光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 

　　吉田莊一郎，1932年出生于東京。1956年畢業(yè)于東京大學(xué)工學(xué)系精密工學(xué)科，同年進入日本光學(xué)工業(yè)公司（現(xiàn)為尼康公司）。從事天體望遠鏡、分光器等產(chǎn)品的設(shè)計，后著手開發(fā)用于制造超LSI的縮小投影型曝光裝置（步進機）。歷經(jīng)精機事業(yè)部部長等職后，于1997年成為社長、2001年成為會長（董事長）兼CEO。2005年起擔(dān)任尼康公司顧問。1985年至1990年間在新技術(shù)開發(fā)事業(yè)團（現(xiàn)為科學(xué)技術(shù)振興機構(gòu)）的創(chuàng)造科學(xué)技術(shù)項目“吉田納米機構(gòu)”曾任總負責(zé)人，也曾任過日本半導(dǎo)體設(shè)備協(xié)會（SEAJ）、國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會（SEMI）、精密工學(xué)會等組織的會長。1991年獲頒藍綬褒章、2003年獲頒法國榮譽勛章、2006年獲頒美國電氣與電子工程師學(xué)會（IEEE）的羅伯特?諾伊斯獎。 

　　吉田莊一郎作報告 

曹健林副部長致辭  

報告會現(xiàn)場