9月14日， EDA工具廠商Mentor公司代表團(tuán)訪問了微電子所及中科院EDA中心，雙方就進(jìn)一步加強(qiáng)合作進(jìn)行了座談。

　　會(huì)議特別邀請(qǐng)Mentor公司大客戶項(xiàng)目經(jīng)理張淑雯做主題報(bào)告，詳細(xì)介紹了65nm及以下工藝制程面臨的挑戰(zhàn)以及Mentor提供的DFM相關(guān)解決方案。中國科學(xué)院EDA中心陳嵐主任出席并主持了本次會(huì)議，Mentor公司亞太區(qū)技術(shù)總監(jiān)Andrew先生、中芯國際DFM部門負(fù)責(zé)人張立夫博士以及聲學(xué)所、自動(dòng)化所、計(jì)算所等EDA中心會(huì)員單位也參加了本次交流會(huì)。

　　交流會(huì)上，張淑雯女士首先介紹了65nm及以下工藝芯片制造時(shí)遇到的各種隨機(jī)和系統(tǒng)波動(dòng)，包括particle所引起的短路斷路、光刻和化學(xué)機(jī)械拋光所帶來的工藝偏差等問題。這些問題隨著關(guān)鍵尺寸的縮小而變得越發(fā)嚴(yán)重，已經(jīng)無法通過簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)規(guī)則約束來避免。因此，芯片可制造性的問題，逐步轉(zhuǎn)移到了上游設(shè)計(jì)者的手中，在設(shè)計(jì)完成前就要考慮其在指定工藝條件下，是否能具有較高的加工良率。Mentor Graphics提供了一整套的DFM解決方案，包括關(guān)鍵區(qū)域分析（CAA）工具、光刻友好設(shè)計(jì)（LFD）工具、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）模擬工具和ESD分析工具等。這些工具都是通過了代工廠所提供大量silicon data的驗(yàn)證，為芯片設(shè)計(jì)者提供了一個(gè)可靠的虛擬平臺(tái)來提前檢驗(yàn)自身設(shè)計(jì)，大大縮短芯片的加工周期和進(jìn)入市場(chǎng)的時(shí)間。例如，CMP模擬分析結(jié)合Smart-Fill工具可以有效解決化學(xué)機(jī)械拋光中遇到的平坦性問題，ESD分析工具PERC提供了包括Pin-to-Pin Resistance和Current density等方面的電路可靠性分析。作為Mentor重要合作伙伴單位的中芯國際，其DFM部門負(fù)責(zé)人張立夫博士還介紹了SMIC65/45nm流程中的DFM相關(guān)內(nèi)容。

　　會(huì)后，Andrew先生還與EDA中心的部分技術(shù)人員進(jìn)行了小范圍的討論交流。