8月25日，由我所剛剛引進的楊達研究員為七室全體工作人員和研究生作了題為“芯片設計與加工的一體優化——半導體研發的必然趨勢”的學術報告，七室主任陳嵐研究員出席并主持了此次學術交流活動。
楊達博士于美國亞利桑那大學獲得化學專業博士學位，在康奈爾大學材料科學系從事了博士后研究，后加入IBM歷任先進光刻研發工程師、22納米技術設計規范制定技術帶頭人等職務，現任中科院微電子所電子設計平臺與共性技術研究室研究員。
在報告中，楊達博士介紹了先進芯片企業研發的架構與流程，闡述了芯片設計與加工一體優化的概念。他通過光刻技術的實例說明了工藝節點的不斷縮微給設計和制造所帶來的巨大的挑戰，而設計和制造協同優化方法學研究將在迎接這一挑戰中發揮重要作用。芯片設計與加工一體優化將成為32nm及以下芯片設計制造的重要方法和微電子技術未來發展的必然趨勢。
在報告后的交流中，楊達博士解答了與會者關于設計加工一體優化的相關問題，并以自己的研究歷程為例介紹了北美一流高校人才培養模式以及國際高科技公司研發狀況。
此次學術交流活動作為七室“前沿與創新”學術研討系列活動之一，將有力地提升研究室的學術氛圍，營造寬松、積極的工作環境，激發大家的科研熱情，更加踴躍地投入到科研事業中。
楊達博士在報告中
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