2009年8月31日， 世界知名物理學家、電子束光刻技術(shù)科學家、IBM 資深科研理事（IBM Fellow Emeritus）Pfeiffer博士到我所訪問并作了題為《電子束光刻技術(shù)的進化：歷史和展望》的報告。

　　　Pfeiffer博士在柏林理工大學獲得博士學位，在電子光學、電子束物理和電子束光刻領(lǐng)域有130篇論文和27項專利。他是IBM技術(shù)研究院的委員，獲得多項IBM發(fā)明和突出貢獻獎勵。在IBM工作的34年中，他率領(lǐng)世界頂尖的研發(fā)團隊使得IBM的電子束光刻技術(shù)始終處于世界領(lǐng)先水平，建造了第一臺工業(yè)用成形電子束光刻系統(tǒng)。他的工作奠定了從IBM EL-1到El-5的5代生產(chǎn)型電子束光刻設備。近年來Pfeiffer博士正致力于研發(fā)IBM 的下一代電子束投影光刻技術(shù)PREVAIL。

　　在報告中Pfeiffer博士指出，電子束光刻技術(shù)一直是追求圖形高分辨率、器件小型化和無掩模光刻的有效技術(shù)手段，它的圖形生成的靈活性和高分辨率更使其成為掩模制造的有力工具。基于他對帶電粒子光學的挑戰(zhàn)和機會的深刻理解，他在報告中重點深入全面地介紹了近年來電子束光刻技術(shù)進展，以及電子束光刻生產(chǎn)率偏低的物理特性和多種克服這一特性的技術(shù)及其比較，其中對大量平行束曝光在電子束投影光刻技術(shù)和無掩模光刻中的應用還做了重點介紹。此外，他還介紹了先進的電子束曝光技術(shù)與普通光刻技術(shù)進行混合光刻的優(yōu)點。同時，他對一些一度被認為很有前景和后來又被研究者放棄的一些技術(shù)作了深入剖析，指出由于技術(shù)的競爭而使得在科學技術(shù)上有意義的研究最終不一定能應用到生產(chǎn)當中的現(xiàn)實。

　　隨后，Vistec電子束光刻技術(shù)集團的市場部經(jīng)理Mrs. Ines Stolberg作了題為《電子束光刻技術(shù)的應用現(xiàn)況》的報告。她在報告中介紹了Vistec公司的發(fā)展和高斯束和成形束電子束曝光機的不同特性及其對應的應用領(lǐng)域，并對目前市場上可得到的多種類型的電子束曝光系統(tǒng)作了深入的分析比較。

　　會后，我所及有關(guān)單位的研究人員與兩位專家進行了討論和交流。通過這次學術(shù)交流活動使我所研究人員對電子束光刻技術(shù)的優(yōu)點、局限性和未來的發(fā)展前景有了更全面深入的了解，對該技術(shù)領(lǐng)域的近一步研究提供了幫助。