教育背景：
1998畢業(yè)于德國(guó)馬普固體所/德國(guó)斯圖加特大學(xué)，獲理學(xué)博士學(xué)位
1992畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)院電子學(xué)研究所，獲工學(xué)碩士學(xué)位
工作簡(jiǎn)歷：
2013年 – 至今： 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所研究員、博士生導(dǎo)師；國(guó)家科技重大專項(xiàng)“300mm晶圓勻膠顯影設(shè)備”首席科學(xué)家（沈陽芯源微電子設(shè)備公司）。
2009年 – 2013年： 美國(guó)格羅方德紐約研發(fā)中心光刻經(jīng)理。
2007年 – 2008年： 美國(guó)安智公司新澤西研發(fā)中心，高級(jí)科學(xué)家(Senior Staff Scientist)。
2001年 – 2007年： 德國(guó)英飛凌公司美國(guó)紐約研發(fā)中心，高級(jí)工程師(Senior/Staff Engineer)。
1998年 – 2001年： 美國(guó)能源部橡樹嶺國(guó)家實(shí)驗(yàn)室，博士后
193nm浸沒式光刻工藝；光學(xué)鄰近效應(yīng)修正（optical proximity collection）；光刻材料研發(fā)和評(píng)估；勻膠顯影設(shè)備（track）研發(fā)
人才隊(duì)伍