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科研動(dòng)態(tài)

國家科技重大專項(xiàng)項(xiàng)目“32納米以下設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)研究及創(chuàng)新設(shè)備技術(shù)探索”通過項(xiàng)目驗(yàn)收

稿件來源: 發(fā)布時(shí)間:2015-07-22

  7月18-19日,國家科技重大專項(xiàng)項(xiàng)目“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”(以下簡稱02專項(xiàng))實(shí)施管理辦公室組織專家對(duì)“32納米以下設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)研究及創(chuàng)新設(shè)備技術(shù)探索”項(xiàng)目進(jìn)行了驗(yàn)收。02專項(xiàng)總體組技術(shù)副總師王曦院士,中科院微電子所所長葉甜春、副所長劉新宇等出席了會(huì)議,專家組成員、項(xiàng)目相關(guān)科研和管理人員共70余人參加了驗(yàn)收會(huì)。 

  該項(xiàng)目由中科院微電子所牽頭,合作單位包括清華大學(xué)、中科院光電技術(shù)研究所、無錫華瑛微電子技術(shù)有限公司等,主要進(jìn)行新原理設(shè)備研發(fā)工作,取得了如下成果:研制了8臺(tái)原理樣機(jī);開發(fā)了與新原理設(shè)備相適應(yīng)的配套工藝,包括超淺結(jié)制造注入工藝,超淺摻雜退火工藝,高K柵介質(zhì)制作技術(shù),無損傷、高效、低排放、節(jié)水清洗工藝,超精細(xì)和低損傷刻蝕工藝,無掩模光刻技術(shù)工藝,超臨界化學(xué)清洗工藝及常壓等離子體去膠工藝等關(guān)鍵工藝;建立了32納米關(guān)鍵技術(shù)及創(chuàng)新設(shè)備試驗(yàn)平臺(tái),面向社會(huì)開展了技術(shù)共享和服務(wù);申請(qǐng)專利302項(xiàng),其中國內(nèi)發(fā)明專利259項(xiàng)(授權(quán)77項(xiàng))、實(shí)用新型專利12項(xiàng)、外觀專利12項(xiàng)、國際專利19項(xiàng),計(jì)算機(jī)軟件登記7項(xiàng);翻譯著作1部;獲得北京市科學(xué)技術(shù)獎(jiǎng)2項(xiàng)。 

  驗(yàn)收會(huì)上,專家組認(rèn)真聽取了項(xiàng)目和課題負(fù)責(zé)人關(guān)于項(xiàng)目完成情況的匯報(bào),現(xiàn)場審閱了科研、財(cái)務(wù)等驗(yàn)收材料,實(shí)地考察了項(xiàng)目研發(fā)平臺(tái)。經(jīng)過充分討論、質(zhì)詢和評(píng)議,專家組對(duì)項(xiàng)目取得的研究成果給予高度評(píng)價(jià),一致認(rèn)為該項(xiàng)目驗(yàn)收文檔齊全,各項(xiàng)功能和指標(biāo)均達(dá)到項(xiàng)目任務(wù)書要求,同意通過項(xiàng)目驗(yàn)收。

 

 

驗(yàn)收會(huì)現(xiàn)場

實(shí)地考察項(xiàng)目研發(fā)平臺(tái)

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