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科研動態(tài)

微電子所“等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)”在第二十屆全國發(fā)明展上榮獲金獎

稿件來源: 發(fā)布時間:2011-09-21

  在剛剛閉幕的第二十屆全國發(fā)明展覽會上,微電子所微電子設備技術(shù)研究室(八室)參展的“等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)(ALD)”憑借多項原創(chuàng)發(fā)明喜獲展覽會金獎,成為本屆展會中科院系統(tǒng)唯一獲此殊榮的項目。

  本屆發(fā)明展覽會經(jīng)科技部批準,由中國發(fā)明協(xié)會、山東省人民政府、威海市人民政府主辦,以“技術(shù)創(chuàng)新、改善民生、協(xié)調(diào)發(fā)展”為主題,共設有400個展位,展出了近1600項優(yōu)秀專利發(fā)明和科技成果。

  經(jīng)北京市發(fā)明協(xié)會和首都科技條件平臺推薦,由微電子所八室主任夏洋研究員領銜的研究團隊共有兩項成果參展,其中“等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)”憑借多項重要發(fā)明專利得到了評委會多位專家青睞,榮獲展覽會金獎。另一項目“高亮度LED圖形化襯底刻蝕系統(tǒng)”也收獲銅獎。

收獲金獎的“等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)”

獲獎證書

獎牌

附件: