11月24日，芬蘭倍耐克公司（Beneq）李爍工程師來我所進行了“原子層沉積技術(shù)及應(yīng)用”的學(xué)術(shù)介紹，并與三室?guī)熒M行了熱烈的討論與交流。

　　李爍工程師講到，原子層沉積（atomic layer deposition，ALD），最初于70年代由芬蘭科學(xué)家提出，并用于平板顯示器所需的多晶熒光材料ZnS:Mn以及非晶Al2O3絕緣膜的研制。多年來，原子層淀積技術(shù)的應(yīng)用范圍從液晶顯示面板到工業(yè)涂層等多種領(lǐng)域。目前，正在逐漸成為微電子器件制造領(lǐng)域的必須。它具有單原子層逐次沉積，沉積層厚度均勻的特點，可沉積豐富的材料。

　　通過這次交流，三室?guī)熒芤娣藴\，不僅加深入了對原子層沉積技術(shù)的了解，同時又豐富了專業(yè)知識，為今后科研工作的展開打下了良好基礎(chǔ)。