發(fā)現(xiàn)科學(xué)之美
不忘初心
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發(fā)布時間：2020-08-06
- 作者信息：高頻高壓中心 黃森
圖片描述：本作品顯示的是氮化鎵表面形貌經(jīng)過高溫等離子體刻蝕的前后對比（左圖為新鮮表面，右圖為刻蝕后的表面）。新鮮GaN表面可以看到清晰的原子臺階，經(jīng)過高溫等離子體刻蝕工藝后原子臺階依然脈絡(luò)可見，就像美國亞利桑那州的波浪谷（The Wave）在大自然經(jīng)年累月的風(fēng)化下依然保持本色。這也告訴我們科研的道路崎嶇坎坷，但貴在不忘初心。- 實驗方法：左圖GaN外延是通過金屬有機物化學(xué)氣相沉積制備，顯示清晰的原子臺階。外延片經(jīng)圖形化后，采用氯基電感耦合等離子體高溫刻蝕形成了右圖所示的被蝕刻的波浪形貌。
- 取樣儀器名稱型號：德國Park原子力顯微鏡系統(tǒng)
- 圖片處理軟件名稱：Park XEI software、Photoshop CS3 Extended
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