作者信息：先導(dǎo)中心  張青竹

圖片描述：本作品顯示的是NiPt硅化物納米線(xiàn)橫切面，可以清晰地看到不同元素的分布情況。初入眼簾，我們可以看到這副圖所描述的景象和白居易《憶江南》中，那句“日出江花紅勝火，春來(lái)江水綠如藍(lán)”中描述的日出景致，如出一轍！每次看到此圖，都昭示我們科研艱辛之路，就如同日出破曉之前一個(gè)漫長(zhǎng)的過(guò)程！科研過(guò)程之中，我們每個(gè)人都有屬于自己的經(jīng)歷的要去破曉，需要我們?nèi)ザ尚闹械哪莻€(gè)黑暗之劫！唯有堅(jiān)守信念，持之以恒，一如既往的日出而作日落而息，方可一覽日出之時(shí)所給我們帶來(lái)的那種大氣磅礴、氣吞山河時(shí)的自然之美！ 

實(shí)驗(yàn)方法：基于芯片CMOS主流FinFET場(chǎng)效應(yīng)晶體制造技術(shù)平臺(tái)，使用納米尺寸側(cè)墻硬掩膜，通過(guò)時(shí)分復(fù)用刻蝕技術(shù)和氧化的方法形成納米線(xiàn)。采用NiPt金屬使源漏變?yōu)榻饘偌{米。其他工藝和主流FinFET兼容類(lèi)似工藝。通過(guò)過(guò)FIB制樣技術(shù)，截取納米線(xiàn)線(xiàn)的橫切面，并通過(guò)透射電子顯微鏡觀(guān)察和分析元素分布。 

取樣儀器名稱(chēng)型號(hào)： FEI Helios和FEI Talos F200X